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高纯金属溅射靶材
发布于2023-09-25 15:09:48
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溅射靶材是集成电路的核心材料之一,近年来向着高溅射率、高纯金属的方向发展。
其 下游应用场景主要包括半导体、面板、太阳能电池,随着消费电子终端市场的发展与完 善,高纯金属溅射靶材的下游需求不断上升,2013-2020 年全球靶材市场规模的复合增 速达 14%,市场规模逐渐扩大。溅射靶材的行业壁垒较高,美国与日本公司掌握核心技 术,垄断全球市场。我国的溅射靶材行业起步较晚,较为落后,但市场需求全球领先, 国产替代空间大。国内公司正在逐渐突破技术瓶颈,为打破美日垄断高端靶材市场的不 利局面而努力。
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