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高纯溅射靶材

发布于2023-09-25 11:59:13 点击：0

利用离子源产生的离子轰击固体表面，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体称为溅射靶材, 是集成电路制造过程中的关键材料

根据应用领域，分为半导体靶材、面板靶材、光伏靶材等。高纯溅射靶材制造环节技术门槛高、设备投资大，在溅射靶材产业链各环节的公司数量呈现金字塔型分布

半导体溅射靶材行业集中度很高，前五大厂商占比超过80%。具有规模化生产能力的公司数量相对较少，主要分布在美国、日本等国家和地区。
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